Advanced Research Center for Nanolithography

Het Advanced Research Center for Nanolithografie (ARCNL) is opgezet vanuit een samenwerking tussen ASML, FOM, NWO, UvA en VU en vormt een nieuw type organisatie binnen NWO dat het beste van twee werelden combineert: de voordelen en wetenschappelijke sterkte van NWO/FOM met de financiën en governance van de private partijen.

ARCNL's missie:
Het ARCNL richt zich op de fundamentele fysica achter de huidige en toekomstige nanolithografische technieken voor de halfgeleider industrie. Het wetenschappelijk programma van ARCNL is daarom sterk verbonden met de technologische doelstellingen van ASML. Een groot deel van het initiële programma richt zich op de fysische processen die centraal staan bij de opwekking van (hoge intensiteit) extreem ultraviolet (EUV) licht en het gebruik van EUV in nanolithografie. ARCNL zal zich in de toekomst continu blijven ontwikkelen om de grenzen van het onderzoek in nanolithografie te verleggen.

Het ARCNL wordt vanuit AMOLF opgestart en zal naar verwachting medio 2015 helemaal zelfstandig worden.

Directeur ARCNL
Prof.dr. Joost Frenken