Onderzoekers FOM-Rijnhuizen en Philips winnen posterprijs in San Diego

Tijdens het vierde "International Symposium on Extreme Ultra-Violet Lithography", van 7 tot 9 november 2005 in San Diego, hebben onderzoekers van FOM-Rijnhuizen en Philips samen de prijs voor de beste poster^*) gekregen. Ze presenteerden onderzoek aan een nieuw type spectraal-selectief multilaagsysteem. Gewone multilagen worden ontwikkeld als reflecterende coatings voor de nieuwste generatie lithografie-apparatuur voor de productie van chips. Deze technologie werkt met de zeer korte golflengte van 13,5 nanometer, extreem ultraviolet (EUV). Tot dusverre reflecteerden de spiegels ook het parasitaire licht van de EUV-lichtbronnen, onder andere in het ver-ultraviolet. Hierdoor zou de EUV-afbeelding op de chip kunnen verdwijnen, potentieel een ernstig probleem in de lithografie. Onderzoekers in de groep van Fred Bijkerk op Rijnhuizen hebben een nieuw type materiaal gemaakt met speciale brekings- en buigingseigenschappen voor Extreem Ultraviolet en Ver-Ultraviolet licht. Dat brengen ze aan óp de multilaagspiegels die ze eerder al ontwikkeld hebben. In samenwerking met onder anderen Maarten van Herpen van Philips Research en onderzoekers van ASML, de Physikalische Bundesanstalt PTB en Carl Zeiss SMT AG in Duitsland kon nu theoretisch en experimenteel worden aangetoond dat de parasitaire straling met de nieuwe multilaagspiegel met een factor vijf kan worden onderdrukt.

_________________________
^*) Multilayer optics with spectral purity enhancing layers for the EUV wavelength range, R.W.E. van de Kruijs, A.E. Yakshin, M.M.J.W. van Herpen, D.J.W. Klunder, E. Louis, S. Alonso van der Westen, H. Enkisch, S. Muellender, L. Bakker, V. Banine, M. Richter, and F. Bijkerk, Fourth International Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) Symposium, San Diego, www.sematech.org/meetings/archives.htm (to be published).