Nieuwe FOM-groep van start bij ASML
De Stichting FOM en ASML hebben een samenwerkingsovereenkomst getekend voor een nieuwe FOM-onderzoeksgroep op het gebied van vloeistofdynamica, gevestigd bij ASML in Veldhoven. De groep gaat zich richten op het gedrag van kleine tindruppeltjes, die onder invloed van laserlicht extreem UV-licht (EUV) uitzenden. ASML gebruikt de tinduppeltjes voor EUV-lithografie, een techniek voor het maken van computerchips. De nieuwe groep is gelieerd aan de vakgroep 'Physics of Fluids' van prof.dr. Detlef Lohse aan de Universiteit Twente en bestaat uit groepsleider dr.ir. Hanneke Gelderblom en drie promovendi.
EUV-lithografie is een techniek waarbij met extreem UV-licht elektronische structuren op een plak silicium (wafer) worden afgebeeld. Zo ontstaat een chip. Het voordeel van extreem UV-licht is dat het een heel kleine golflengte - tot tien nanometer - heeft en dus heel kleine structuren kan genereren. Zodoende kunnen er steeds kleinere chips gemaakt worden, of juist chips met veel grotere rekenkracht. Maar de productie van dit speciale licht is een fysische uitdaging. In de EUV-lithografiemachines van ASML wordt met een zeer krachtige laser op piepkleine tindruppeltjes geschoten. Daarmee worden de elektronen van de tinatomen op een hoger energieniveau gebracht, waarna ze extreem UV-licht van exact de juiste golflengte uitzenden. Speciale spiegels in de machine focusseren het licht op de wafer.
Energie-efficiënt
Lohse: "Een van de problemen van deze techniek is vervuiling. Je kunt je voorstellen dat de tindruppeltjes uiteenspatten als je ze met een hoog energetische laser beschiet. Als die nevel van tin op de spiegels neerslaat, functioneren de spiegels niet meer en verstrooit het licht. Dat gebeurt al bij een laagje van enkele atomen. Wij gaan met de nieuwe groep onderzoeken hoe je het uiteenspatten van de druppels en daarmee de tinaanslag op de spiegels tot een minimum kunt beperken. Daarnaast gaan we bekijken in welke omstandigheden dit proces het meest energie-efficiënt is. We kijken dan bijvoorbeeld naar de vorm van de druppels, de valsnelheid en de laser. Het is een groot voordeel om in house bij ASML te zitten, aangezien daar veel kennis is over deze specifieke techniek, en machines en labopstellingen voorhanden zijn. De toepassing bij ASML is een inspiratiebron voor fundamenteel fysisch onderzoek."
Prof.dr. Bart Noordam, Vice President Research ASML: "Met dit nieuwe programma wordt de samenwerking tussen ASML en FOM verder bestendigd op dit voor het Nederlands onderzoek zeer belangrijk aandachtsgebied binnen de high tech sector. Wij hebben veel vertrouwen in de succesvolle uitkomsten van het programma."
Over de nieuwe groep
De samenwerking vindt plaats in de vorm van een Industrial Partnership Programme (IPP) met als thema 'Fundamental fluid dynamics challenges of extreme ultraviolet lithography'. Het onderzoeksprogramma duurt vijf jaar en heeft een totaalbudget van 1,5 miljoen euro. FOM en ASML brengen hiervan beide vijftig procent in. Daarnaast stelt ASML de huisvesting van de groep beschikbaar. De groep zal worden geleid door dr.ir. Hanneke Gelderblom, die al met haar onderzoeksgroep bij ASML van start is gegaan. FOM-werkgroepleider prof.dr. Detlef Lohse, bij wie Gelderblom promoveerde, is programmaleider. Het is de eerste universitaire FOM-onderzoeksgroep op locatie. Er bestaan wel al groepen vanuit FOM-instituten die bij bedrijven zijn gevestigd: zo is een groep van FOM-instituut AMOLF bij Philips gevestigd en zijn twee groepen van FOM-instituut DIFFER bij respectievelijk ASML en Fujifilm gestationeerd.
Over ASML
ASML helpt om betrouwbare micro-elektronica te maken die de kwaliteit van leven vergroten. ASML bedenkt en ontwikkelt complexe technologie voor high-tech lithografische machines voor de halfgeleiderindustrie. ASML neemt de voortzetting van de Wet van Moore als uitgangspunt: het ontwikkelen van steeds kleinere, goedkopere, krachtigere en energiezuinigere halfgeleiders. Hun succes is gebaseerd op drie pilaren: technologisch leiderschap gecombineerd met een nauwe band met klant en leverancier, zeer efficiënte processen en ondernemende mensen. ASML is een multinational, gevestigd op 70 plaatsen in 16 landen, met het hoofdkwartier in Veldhoven. Er zijn meer dan 13.200 mensen (in fte) werkzaam, via vaste of flexibele contracten. ASML is een inspirerende plaats, waar werknemers werken, ontmoeten, leren en delen. ASML staat onder het symbool ASML genoteerd aan de Euronext in Amsterdam en aan de NASDAQ. Kijk voor meer informatie op www.asml.com.
Over FOM
De Stichting voor Fundamenteel Onderzoek der Materie stimuleert, coördineert en financiert fundamenteel fysisch onderzoek in Nederland en is onderdeel van de Nederlandse Organisatie voor Wetenschappelijk Onderzoek (NWO).
Meer informatie
Voor meer informatie kunt u contact opnemen met:
Detlef Lohse (Universiteit Twente), +31 (0)53 489 24 70.
Bart Noordam (ASML), +31 (0)40 268 30 92.
Op YouTube vindt u een geluidsfragment uit het interview met dr.ir. Hanneke Gelderblom voor het FOM Jaarboek 2013 dat binnenkort op www.fom.nl/jaarboek verschijnt