ARCNL geopend door Sander Dekker en Martin van den Brink
Op dinsdag 11 november 2014 openden Staatssecretaris Sander Dekker van Onderwijs, Cultuur en Wetenschap en Martin van den Brink, president en CTO van ASML, het Advanced Research Center for Nanolithography (ARCNL) op het Amsterdam Science Park. Met een druk op de knop zetten Dekker en Van de Brink een krachtige laser in werking die een lint met daarop het ARCNL logo doorbrandde. Ze gaven daarmee het sein aan twee in laboratoriumpakken gestoken medewerkers om de deuren te openen van het nieuwe laboratorium van ARCNL.
Voorafgaand aan deze openingshandeling luisterden zo'n driehonderd genodigden naar vertegenwoordigers van alle partijen die betrokken zijn bij ARCNL. Theater- en filmmaker Jan van den Berg presenteerde het programma en introduceerde de vertegenwoordigers. Deze sprekers lieten ieder vanuit een eigen invalshoek zien wat het belang is van deze bijzondere samenwerking tussen private (ASML) en publieke partijen (Stichting FOM, NWO, de Universiteit van Amsterdam en de Vrije Universiteit Amsterdam). Zo sprak staatssecretaris Sander Dekker over de voorbeeldfunctie die de samenwerkende partners vervullen voor toekomstige publiek-private samenwerkingen op het snijvlak van wetenschap en bedrijfsleven.
Na de spectaculaire openingshandeling konden de bezoekers een kijkje nemen in de nieuwe laboratoria. Directeur Joost Frenken wilde de bezoekers graag laten proeven van het enthousiasme waarmee ARCNL wordt opgebouwd.
Het Advanced Research Center for Nanolithography (ARCNL) is een publiek-private samenwerking tussen FOM, de Universiteit van Amsterdam, de Vrije Universiteit Amsterdam en ASML, de producent van lithografiemachines voor de chipindustrie, met aanvullende financiële steun van de gemeente Amsterdam en de provincie Noord-Holland. ARCNL verricht fundamenteel onderzoek op het gebied van de nanolithografie, in het bijzonder voor toepassing in de halfgeleiderindustrie. In eerste instantie richt het centrum zich op de fysische en chemische processen die cruciaal zijn voor lithografie met Extreem Ultraviolet (EUV) licht.